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中国光刻机研发取得最新进展,正迈向高精尖技术领域的新阶段。目前,研发团队在关键核心技术方面取得重要突破,光刻机的性能和质量得到显著提升。这一进展为中国半导体产业的发展提供了有力支持,有望推动国内光刻机技术达到国际先进...